Назад

Silicon Technologies. Ion Implantation and Thermal Treatment

0

Жанр Техническая Литература, Электроника

Издательство

ISBN: 9781118601112

Объём книги Фрагмент

The main purpose of this book is to remind new engineers in silicon foundry, the fundamental physical and chemical rules in major Front end treatments: oxidation, epitaxy, ion implantation and impurities diffusion.

Скачать бесплатно книгу “Silicon Technologies. Ion Implantation and Thermal Treatment”

Доступные форматы для скачивания:
Комментарии 0
Добавить комментарий
Осталось 500 символов